单质金属靶材 单质元素靶材 单质氧化物靶材 溅射靶材厂家

真空镀膜机是在中间设置真空室，在真空室的左右两侧设置左右大门，而在其中配装蒸发装置和磁控装置，可在该双门上预留该两装置的接口，以备需要时换装。真空镀膜机一般都是由真空系统、蒸发系统、薄膜卷绕系统、冷却系统、控制系统等主要部分组成。当薄膜运行速度达到一定数值后，打开挡板使气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、冷却即形成一层连续而光亮的金属铝层。通过控制金属铝的蒸发速度、基材薄膜的移动速度等来控制镀铝层的厚度，一般镀铝层厚度在250～500。而蒸发真空镀膜机是专业在塑料表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的**设备，镀出的膜层牢固且细密，是工业化生产的理想设备，其特点是它的环保性，真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备。

冷喷涂铝靶（UVTM）

参数帮助：

密度: ≥ 2.6g/cm³(≥96%)

纯度: ≥ 99.9%-99.99%(根据客户需求)

应用: 主要用于表面装饰及功能镀膜，半导体电子, TFT-LCD, 平面显示，薄膜太阳能行业

加工尺寸： 长度L: 4000MM    厚度T: 6-15MM，直型、狗骨型，按客户要求定做